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深度分析

独家:韩国SK海力士改造中国无锡芯片厂计划因美国反对而遇险

路透首尔11月18日 - 知情消息人士告诉路透,韩国SK海力士000660.KS对旗下一中国大型工厂的改造计划面临危险,因为美国官员不希望该过程中使用的先进设备进入中国。SK海力士原本希望通过计划提高记忆体芯片的生产效率。

资料图片:2016年4月,韩国城南市,SK海力士总部的企业标识。REUTERS/Kim Hong-Ji

这一潜在的挫折可能使SK海力士成为下一家卷进中美地缘政治之争的企业。SK海力士是世界上最大的动态随机存取记忆体(DRAM)内存芯片供应商之一,从智能手机到数据中心的各个领域都使用这种芯片。

三位知情人士表示,SK海力士的生产计划要求公司以荷兰艾司摩尔(ASML) ASML.AS的最新极紫外光(EUV)微影技术的芯片制造机为无锡厂的一个量产设施进行升级。

美国过去曾表示反对,理由是将这类先进工具运至中国可能被用于强化该国的军事力量。

一位白宫高级官员拒绝评论美方官员是否会允许SK海力士将EUV光刻机带到中国。但这位官员告诉路透,拜登政府仍然专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造,这将会助力中国军事现代化。

无锡这家工厂对全球电子行业至关重要,因其生产SK海力士约半数的动态随机存取记忆体芯片,占全球总量的15%。任何重大变化都可能对全球内存(记忆体)市场产生影响,分析公司IDC称,光是2021年,全球内存市场的需求就将增长19%。

一位了解SK海力士在中国运营情况的消息人士说,随着两到三年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大份额,该公司将需要EUV光刻机来控制其成本并加速生产。

SK海力士内部的担忧以前没有被报导过。如果这种情况在未来几年内得不到解决,SK海力士可能会在与头号内存芯片制造商三星电子005930.KS和美国美光MU.O等对手的竞争中处于不利地位。三星和美光也都在转向使用艾司摩尔的EUV光刻机,但没有在工厂所在地使用,因为这些机器面临出口限制。

据两位知情人士称,艾司摩尔EUV光刻机的问题在SK海力士内部引起了足够的关注,首席执行官Lee Seok-hee在7月访问华盛顿特区时向美国官员提出了这个问题。

SK海力士不予置评,并补充说,它根据各种市场环境灵活运作,正在尽最大努力应对市场和客户的需求,没有问题。

特朗普政府多方着手,成功阻止艾司摩尔将技术出售给中芯国际0981.HK;在游说荷兰政府时,白宫官员与该国总理分享了一份机密情报报告。

艾司摩尔一位发言人说,该公司遵守所有的出口管制法律,将其视为政府确保国家安全的“有效工具”。但该公司还表示,过度使用这些控制措施“可能会影响到为保持领先于半导体需求增长所需的产能”。

该发言人在一份声明中说,广泛使用出口管制可能会加剧微芯片供应链问题,由于对汽车等其他行业的溢出效应,这些问题已经成为世界各国政府和政策制定者的主要关切。

分析人士称,美国官员可能会认为SK海力士将EUV光刻机引入中国的尝试,与中国公司此前的类似努力没有任何区别。

VLSIresearch的首席执行官Dan Hutcheson说:“他们真的被夹在中国和美国中间。”他补充说,这些规则可能适用于中国的任何芯片制造业务,无论是外资还是中资控制。“不管谁把EUV光刻机引入中国,都会让中国具备这种能力。一旦它到了那里,你不知道它之后会去哪里。中国人总是可以占有它或者做他们想做的任何事。”(完)

编译 李爽/陈宗琦/王灿/徐文焰;审校 陈宗琦/李婷仪/戴素萍/王兴亚

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